新(xīn)材料科(ke)技與化(huà)學技術(shu)創新
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光固(gù)化粘合(he)劑的機(jī)遇與挑(tiāo)戰
簡要(yào)總結了(le)光固化(huà)粘合劑(ji)及其應(ying)用的特(tè)點、配方(fāng)設計要(yào)點、難點(diǎn)和核心(xīn)性能指(zhǐ)标;從技(ji)術特色(se)和技術(shu)先進性(xing)🈲角度提(ti)出了一(yī)些值得(de)關注、并(bing)有較大(dà)市場空(kōng)間的光(guāng)固🔞化粘(zhān)合劑,包(bao)括UV壓敏(mǐn)膠、複合(hé)膠、建築(zhu)膠、電子(zi)膠💜和光(guāng)學膠🌂;分(fèn)析了提(ti)高光固(gu)化🌈的官(guan)能團轉(zhuǎn)化率的(de)重要性(xing)以及新(xin)🧑🏽🤝🧑🏻原料、新(xīn)産品開(kai)發方面(mian)的♌一些(xiē)難題。
發(fā)布時間(jiān):
2025-12-13
光(guāng)刻膠 | 半(bàn)導體高(gāo)壁壘核(he)心材料(liao)
導言:光(guāng)刻膠目(mù)前廣泛(fàn)用于光(guāng)電信息(xī)産業的(de)微細圖(tú)形線路(lù)加✊工制(zhì)作,光刻(kè)工藝的(de)成本約(yue)占整個(gè)芯片制(zhi)造工藝(yi)的35%,耗時(shi)😍占整💋個(gè)芯片工(gōng)藝的40%到(dao)60%,是半導(dao)體制造(zao)中的核(hé)心工藝(yì)。光刻膠(jiao)材料約(yue)占芯片(pian)制造材(cai)料總成(chéng)本的4%,是(shì)半導體(tǐ)集成電(diàn)路制造(zào)的核心(xīn)材💃🏻料。 中(zhōng)國光刻(kè)膠市場(chǎng)增速♈高(gao)于國際(ji)水🈲平,據(ju)前瞻産(chǎn)業研究(jiū)院數據(ju),2019年我國(guo)光刻膠(jiāo)本土供(gòng)應量約(yue)70億元,自(zi)2010年起複(fú)合增速(sù)🌈達11%,遠高(gao)于全球(qiu)增速,但(dan)本土供(gong)應量在(zài)全球占(zhan)比僅10%左(zuo)右,且以(yǐ)已經實(shí)現國産(chǎn)替代的(de)主要是(shì)中💋低端(duān)PCB光刻膠(jiāo)❤️,LCD和半導(dao)體領域(yù)的光刻(ke)膠自給(gěi)率極低(di)。 光刻膠(jiāo)是圖形(xing)轉移介(jiè)質,其利(li)🐉用光照(zhào)反應後(hou)溶解度(dù)不同将(jiang)掩膜版(ban)🌂圖形轉(zhuǎn)移至襯(chèn)底上,主(zhǔ)要由感(gan)光劑(光(guang)引發劑(jì))、聚😄合劑(jì)🍓(感光樹(shù)脂)、溶劑(ji)與助劑(ji)構成。 光(guang)刻膠原(yuán)材料主(zhǔ)要爲樹(shù)脂、溶劑(jì)和其他(tā)添加劑(ji)。其中溶(rong)劑質量(liàng)占比最(zui)大,一般(ban)㊙️在80%以上(shang)。其他添(tian)加劑質(zhì)量占比(bǐ)雖不足(zú)5%,卻是決(jue)定光刻(ke)膠特有(yǒu)性質的(de)關📞鍵材(cái)料🔴,包括(kuò)光敏劑(ji)㊙️、表面活(huo)性劑等(děng)💘材料。 在(zai)光刻工(gong)藝中,光(guang)刻膠被(bei)均勻塗(tu)布在矽(xī)片、玻璃(li)和金屬(shǔ)等不同(tong)的襯底(di)上,經曝(pu)光、顯影(ying)和蝕刻(kè)等工序(xu)😄将掩膜(mo)版上的(de)🥵圖形轉(zhuan)移到薄(báo)膜上,形(xing)成與掩(yǎn)膜版完(wan)全♻️對應(yīng)的幾何(hé)圖形。 光(guang)刻膠可(kě)根據其(qi)💜下遊應(yīng)用領域(yù)✊分爲半(ban)導體光(guāng)刻膠、面(miàn)闆光刻(kè)🈲膠和PCB光(guang)刻膠三(san)類。 半導(dao)😍體光刻(ke)膠 目前(qián),KrF/ArF仍是主(zhu)❤️流的加(jiā)工材料(liào)。光刻技(ji)術随着(zhe)✌️集成電(dian)路的發(fā)展經曆(lì)了從G線(xian)(436nm)光刻,H線(xiàn)(405nm)光刻,I線(xian)(365nm)光刻,到(dào)深🙇♀️紫外(wai)線DUV光刻(kè)(KrF248nm和ArF193nm)、193nm浸沒(mei)式加多(duo)重成像(xiàng)技術(32nm-7nm),在(zai)到極端(duān)紫外🧑🏽🤝🧑🏻線(xian)(EUV,<13.5nm)光刻的(de)發展,甚(shèn)至采用(yòng)非光學(xué)光刻(電(dian)子束曝(pu)📧光、離子(zǐ)束曝光(guāng)),以相應(yīng)波長爲(wei)感光波(bo)長的各(gè)類光刻(ke)膠也應(yīng)用而生(sheng)。 光刻膠(jiāo)市場行(hang)業集中(zhong)度高。日(rì)本企業(yè)⭐在半導(dǎo)體光🧑🏾🤝🧑🏼刻(ke)膠領域(yu)占據絕(jué)對優勢(shì)。半導體(ti)光刻膠(jiāo)主要生(shēng)産企業(ye)💋包括日(rì)本東京(jīng)應化、JSR、住(zhu)友化學(xue)、信越化(huà)學;韓國(guo)東進世(shì)美肯;美(mei)國陶氏(shì)杜邦,其(qi)♻️中日本(běn)企業占(zhàn)🐪據約70%市(shì)場份額(e)。分産品(pǐn)看💔,東京(jīng)應化在(zài)g線/i線和(hé)Krf光刻膠(jiao)🛀🏻領域居(jū)龍頭地(dì)位,市場(chang)⁉️份額分(fèn)别達到(dào)27.5%和32.7%。JSR在Arf光(guang)刻膠領(lǐng)域市占(zhàn)💰率最高(gao),爲25.6%。 根⁉️據(jù)富士經(jing)濟預測(cè),2023年全球(qiu)ArF、KrF膠産能(néng)有望達(da)👌到1870、3650噸,市(shì)場規模(mó)近49、28億元(yuán)。日本光(guang)刻膠龍(lóng)頭JSR、TOK包括(kuo)🐕光刻膠(jiāo)在内的(de)業務毛(mao)利率☔約(yuē)40%,其中光(guang)刻膠原(yuan)料成本(ben)約占90%。 國(guo)内半🏃♀️導(dao)體用光(guāng)✊刻膠生(sheng)産企業(yè)包括上(shàng)海新陽(yáng)、南大光(guāng)電、晶瑞(ruì)股份、北(běi)京科華(huá)、恒坤股(gu)份。目前(qian)隻有北(bei)✔️京科華(hua)、晶瑞股(gu)份具備(bei)量産KrF光(guang)刻膠能(néng)力,北京(jīng)科華産(chan)品已👈爲(wei)中芯國(guó)際供貨(huo)。上海新(xīn)陽在建(jian)的19000噸/年(nian)ArF(幹法)光(guāng)刻膠項(xiang)目預計(ji)2022年達産(chan)。 面闆光(guang)刻膠 光(guāng)刻膠是(shì)LCD面闆制(zhì)造的關(guan)鍵材料(liào),根據使(shǐ)用對象(xiang)的不同(tóng),又可分(fèn)爲RGB膠、BM膠(jiāo)✊、OC膠、PS膠、TFT膠(jiao)等。 面闆(pǎn)光刻膠(jiāo)主要包(bao)括TFT配線(xiàn)用光刻(ke)膠、LCD/TP襯墊(nian)料光刻(kè)膠、彩色(se)光刻膠(jiāo)及黑色(sè)光刻膠(jiāo)四大類(lei)💰别。其中(zhong)TFT配線用(yòng)光刻膠(jiāo)用于對(duì)ITO布線,LCD/TP沉(chen)澱料光(guang)刻膠用(yòng)于使LCD兩(liǎng)個玻璃(lí)基闆間(jiān)的液晶(jīng)材料厚(hòu)度保持(chi)恒定。彩(cai)色光刻(kè)膠及黑(hei)色光㊙️刻(ke)膠可賦(fu)予彩色(se)濾光片(piàn)顯色功(gong)能。 面闆(pǎn)光刻膠(jiāo)市場需(xu)要構成(chéng)穩定,彩(cai)色光刻(ke)膠需求(qiu)量領先(xian),預計2022年(nián)全球銷(xiāo)售量将(jiang)達22900噸,銷(xiao)售額将(jiāng)達8.77億美(mei)元。 TFT面闆(pǎn)🐉用光刻(kè)膠💯、LCD/TP襯墊(niàn)料光刻(ke)膠、黑色(sè)光刻膠(jiao)銷售㊙️額(é)2022年預計(jì)分别達(dá)到3.21億美(měi)元、2.51億美(měi)元、1.99億美(mei)元。 根據(jù)智研咨(zi)詢測算(suan),2020年全球(qiu)面闆光(guang)刻膠市(shì)場🤩規模(mó)将達到(dao)167億人民(mín)币,增速(sù)維持在(zai)4%左右。根(gen)據我們(men)的測算(suan),到2025年光(guang)刻膠市(shi)場規模(mo)将達到(dào)203億人民(min)币。其中(zhong),伴随LCD産(chǎn)業中心(xīn)的轉移(yi),我國LCD光(guang)刻膠市(shì)場規模(mó)及國産(chan)化率有(you)望逐步(bu)提升。 PCB用(yòng)光刻膠(jiao) PCB光刻膠(jiao)可根據(jù)塗布方(fāng)式分爲(wei)UV固化油(yóu)墨和UV噴(pen)塗油墨(mò)。目前國(guo)内PCB油墨(mo)供應商(shāng)已逐步(bu)實現國(guo)産替代(dài),容大💜感(gan)光、廣信(xìn)材料等(děng)企業已(yi)掌握PCB油(you)💛墨關鍵(jiàn)技術。 國(guo)内對TFT光(guāng)刻膠和(hé)😍半導體(ti)光刻膠(jiāo)仍在起(qǐ)步⭐探索(suo)階段。晶(jing)瑞股份(fèn)🌈、雅克🥰科(kē)技、永太(tài)😄科技、容(róng)大感光(guāng)、欣奕華(huá)、中電彩(cǎi)虹、飛凱(kǎi)材✔️料在(zài)TFT光刻膠(jiao)領域均(jun1)有布局(ju),其中飛(fei)凱材料(liao)、北旭電(diàn)子規劃(hua)産能✏️高(gao)達5000噸/年(nian),雅克科(ke)技通過(guò)收購LG化(hua)學下屬(shu)彩色光(guang)刻膠事(shi)業部切(qiē)入此市(shì)場,在渠(qú)道和🌈技(ji)術🥵方面(mian)具備優(you)勢。 光刻(kè)膠等技(ji)⭐術壁壘(lěi)極高的(de)行業,實(shi)現技術(shù)層面♻️的(de)突破是(shi)基礎、其(qi)次,需不(bú)斷改進(jin)工藝,滿(mǎn)足半導(dǎo)體行業(yè)快速發(fa)展的需(xū)要。 由于(yu)光刻膠(jiao)等行業(yè)認證❄️時(shí)間較長(zhǎng),客戶不(bú)會輕易(yì)更換供(gong)應商,因(yin)此進入(ru)主流供(gòng)❗應鏈是(shi)極其必(bi)要的。國(guo)内光刻(kè)膠生🍉産(chǎn)商未來(lái)有望把(bǎ)💰握🌈中國(guó)半導體(tǐ)行業進(jin)口替代(dài)契機,實(shi)現快速(sù)發展。 ◆ 資(zī)料來🔅源(yuán):電子材(cái)料圈 ◆ 免(miǎn)責聲明(ming)🌈:所載内(nei)容來源(yuán)于互聯(lián)🈲網,微信(xìn)公衆号(hào)等公開(kāi)渠道💚,我(wǒ)們對文(wen)中觀點(diǎn)持中立(lì)态度,本(ben)文僅供(gòng)參考、交(jiao)流💋。轉載(zǎi)的稿件(jian)版權歸(gui)原作者(zhe)和機構(gou)所有。
代(dài)理花王(wang)化學HOMOGENOL L-28E分(fèn)散劑
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什(shi)麽是酸(suan)銅中間(jian)體
酸銅(tong)中間體(ti)是可在(zài)酸性鍍(du)銅光亮(liàng)劑中提(ti)供流平(ping),定♊位和(he)分散性(xing)能的材(cai)料的總(zong)稱。它主(zhǔ)要包括(kuò)酸性銅(tong)染料,表(biao)面活🔆性(xìng)劑,濕潤(rùn)劑,防霧(wu)劑等,并(bìng)且在電(diàn)路闆電(dian)鍍和硬(ying)件✌️電鍍(dù)中具有(yǒu)廣泛的(de)用途。電(diàn)路闆的(de)酸性銅(tóng)鍍層中(zhōng)通常使(shǐ)用的是(shì)通孔銅(tong)鍍層,盲(mang)孔鍍🔱銅(tóng)層,緞面(miàn)銅等。所(suǒ)用的酸(suān)銅中間(jiān)體主要(yao)包括DEB-45,DEB-MP5,COMP3805,SPS等(deng)材料。
什(shi)麽是PCB标(biao)準通孔(kong)尺寸
PCB制(zhì)造商在(zài)鑽孔時(shí)有自己(jǐ)的一套(tào)标準孔(kǒng)尺寸可(kě)供👄選擇(zé),但他們(men)通常可(ke)以使用(yong)任何标(biāo)準孔尺(chi)寸。一般(bān)情況下(xia),PCB廠家可(ke)以使PCB通(tōng)孔直徑(jìng)小于0.15 mm,而(ér)正常尺(chǐ)寸爲0.6 mm。
亞(ya)什蘭Ashland Aqualon EC乙(yǐ)基纖維(wéi)素
水不(bú)溶性和(he)非離子(zi)性;熱塑(sù)性(156℃),優秀(xiù)的塑性(xing)流動,适(shì)合于注(zhu)模和㊙️熱(rè)熔擠出(chū);機械性(xing)質适合(he)于壓片(piàn)和成膜(mó);粘度(分(fen)子量)和(hé)/或取代(dài)度會顯(xian)著影響(xiang)物理性(xing)質。
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