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光刻(ke)膠 | 半導體(ti)高壁壘核(he)心材料

導(dǎo)言:光刻膠(jiāo)目前廣泛(fan)用于光電(diàn)信息産業(yè)的微細圖(tu)形線路♊加(jia)🔅工制作,光(guāng)刻工藝的(de)成本約占(zhàn)整個芯片(pian)制造工藝(yi)的✔️35%,耗時占(zhan)整個芯片(pian)工藝的40%到(dào)60%,是半導體(ti)制造🎯中的(de)核心工藝(yi)🛀。光刻膠🚶材(cái)料約占芯(xin)片制造🌏材(cai)料總成本(běn)的4%,是半導(dao)體集成電(diàn)路制造的(de)核心材👉料(liao)。   中國光刻(ke)膠市場增(zēng)速♍高于國(guo)際水🔴平,據(ju)前瞻産業(ye)研究院數(shù)🏃🏻據,2019年我國(guó)光刻膠👅本(ben)土供應量(liàng)約70億元,自(zi)2010年起複✔️合(he)增速達11%,遠(yuǎn)高于全球(qiú)增速,但本(běn)土供應量(liàng)在全球占(zhan)比僅10%左🌍右(yòu),且以已經(jīng)實現國産(chǎn)替代的主(zhǔ)要是中低(dī)端PCB光刻膠(jiao),LCD和半導🌈體(tǐ)領域的光(guāng)刻膠自給(gei)率極低。   光(guāng)刻膠是圖(tú)形轉移介(jie)質,其利用(yòng)光照反應(yīng)後溶解度(dù)不同将掩(yan)膜版🈲圖形(xíng)轉移至襯(chen)底上,主要(yào)由感光劑(ji)(光引發劑(ji))、聚合劑(感(gǎn)光樹脂)、溶(róng)劑與助劑(jì)構成。   光刻(kè)膠原材料(liào)主要爲樹(shù)脂、溶劑和(hé)其他添👅加(jiā)劑。其中溶(rong)劑質量占(zhan)比最大,一(yī)般在80%以上(shang)。其他添加(jia)劑質量占(zhan)比雖不足(zú)5%,卻是決定(ding)光刻膠特(tè)有性質的(de)關鍵材料(liào),包括光敏(mǐn)劑、表面活(huo)性劑等材(cái)料。   在光🈚刻(ke)工藝中,光(guāng)刻膠被均(jun1)勻塗布在(zài)矽片、玻璃(lí)🈲和金屬等(deng)不同的襯(chen)底上,經曝(pu)光、顯影和(hé)蝕刻等工(gōng)序将掩膜(mo)版上的圖(tu)形轉移到(dào)薄膜上,形(xing)成與掩膜(mo)版完全對(duì)應的幾何(he)圖形。   光刻(kè)膠可根據(ju)其下遊應(yīng)用領域分(fen)爲半導體(ti)光刻膠、面(miàn)闆光刻🌏膠(jiāo)和PCB光刻膠(jiāo)三類。   半導(dao)體光刻膠(jiāo) 目前,KrF/ArF仍是(shi)主流的加(jiā)工材料🥰。光(guang)刻技術随(sui)着集成電(diàn)路的發展(zhǎn)經曆了從(cóng)G線(436nm)光刻,H線(xiàn)(405nm)光刻,I線(365nm)光(guang)刻,到🆚深紫(zi)外線DUV光刻(ke)(KrF248nm和ArF193nm)、193nm浸沒式(shì)加多重成(chéng)像技術(32nm-7nm),在(zài)到極端🆚紫(zǐ)外線(EUV,<13.5nm)光刻(ke)的發展,甚(shen)至采用非(fēi)光學光刻(kè)(電子束曝(pu)光、離子束(shù)♻️曝光),以相(xiàng)應波長爲(wèi)感光波長(zhang)的各類光(guang)刻膠也應(ying)用💞而生。 光(guang)刻膠市場(chang)行業集中(zhong)度高。日本(ben)企業在半(ban)導體光刻(kè)膠領域占(zhan)據絕對優(yōu)勢。半導體(ti)光刻膠主(zhu)要生産企(qǐ)業🥰包括日(rì)本🤩東京應(yīng)化、JSR、住友化(huà)學、信越化(huà)學;韓國東(dong)進世美肯(kěn);美國陶氏(shì)杜邦,其中(zhong)📞日本企業(ye)占據約70%市(shi)場份額。分(fèn)産🚩品看,東(dong)京應化在(zài)g線/i線和Krf光(guāng)刻膠領域(yù)居龍頭地(dì)位,市場份(fen)額分别達(da)到27.5%和32.7%。JSR在Arf光(guāng)刻膠領⚽域(yù)市占🐕率最(zuì)高,爲25.6%。 根據(ju)富🐇士經濟(jì)預測,2023年全(quan)球ArF、KrF膠産能(néng)有望達到(dào)1870、3650噸,市場🐅規(guī)模近49、28億元(yuán)。日本光刻(ke)膠龍頭JSR、TOK包(bāo)括光刻膠(jiāo)在内的業(yè)務毛利率(lǜ)約40%,其中光(guāng)刻膠原料(liao)成本約占(zhan)90%。 國内半導(dao)體用光刻(ke)膠生産企(qǐ)業包括上(shang)海新陽、南(nan)大光電、晶(jing)瑞股份、北(bei)京科華⚽、恒(heng)坤股份。目(mu)前隻👨‍❤️‍👨有北(běi)京科華、晶(jīng)瑞股份具(jù)備量産KrF光(guāng)刻膠能力(lì),北京科華(hua)産品已🤟爲(wèi)中芯國際(ji)供貨。上海(hǎi)新陽在建(jian)的🚶19000噸/年ArF(幹(gan)法)光刻膠(jiāo)項目預計(jì)🚩2022年達産。   面(miàn)闆光刻膠(jiao) 光刻膠🤟是(shi)LCD面闆制造(zào)的關鍵材(cái)料,根據使(shi)用對象的(de)不同,又可(kě)分🌈爲RGB膠、BM膠(jiao)、OC膠、PS膠、TFT膠等(děng)。 面闆光刻(kè)膠主要包(bao)括TFT配線用(yòng)光刻膠、LCD/TP襯(chèn)墊🐇料光刻(ke)膠、彩色光(guāng)刻膠及黑(hei)色光刻膠(jiāo)🏃🏻四大類别(bie)。其中TFT配線(xiàn)用光刻膠(jiāo)用于對♍ITO布(bu)線,LCD/TP沉澱料(liào)光刻膠用(yòng)于使LCD兩個(ge)玻璃基闆(pǎn)間的液晶(jīng)材料厚度(du)保持恒定(ding)。彩色光刻(ke)膠及黑色(sè)光刻膠可(ke)賦予彩色(se)濾光片顯(xiǎn)色功能。 面(miàn)闆光刻膠(jiāo)市場需要(yào)構成穩定(ding),彩色光刻(kè)膠需求量(liàng)領先,預計(jì)♈2022年全球銷(xiao)售量将達(da)22900噸,銷售⭐額(e)将達8.77億美(měi)元。 TFT面闆用(yong)光刻膠、LCD/TP襯(chèn)墊料光刻(ke)膠、黑色光(guang)刻膠銷售(shou)額2022年預計(ji)分别達到(dào)3.21億美元、2.51億(yì)美元、1.99億美(mei)元。 根據智(zhi)研咨詢測(cè)算🛀,2020年全球(qiú)面闆光刻(ke)膠市場規(gui)模将達到(dào)167億人民币(bì),增速維持(chí)在4%左右。根(gēn)據我們的(de)🏃🏻‍♂️測算,到2025年(nián)光刻膠市(shi)場規模将(jiang)達到203億人(rén)民币。其中(zhong),伴随LCD産業(ye)中心的轉(zhuan)移,我國LCD光(guang)刻膠市場(chǎng)規模及國(guo)産化率有(you)🏃🏻望逐步提(tí)升。   PCB用光刻(ke)膠 PCB光刻膠(jiāo)可根據塗(tú)布方式🐪分(fen)爲UV固化油(you)墨和UV噴塗(tú)油墨。目前(qian)國内PCB油墨(mo)供應商已(yǐ)逐步實現(xiàn)國産替代(dài),容大感光(guang)、廣信材料(liao)等企業已(yi)掌握PCB油墨(mo)關鍵技術(shu)。 國内對🈲TFT光(guang)刻膠和半(bàn)導體光刻(ke)膠仍在起(qi)步探索階(jiē)段。晶瑞股(gǔ)份、雅克❤️科(ke)技、永太科(ke)技、容大感(gan)光、欣奕華(huá)、中電彩虹(hóng)、飛凱材料(liao)在TFT光刻膠(jiāo)領域均☂️有(yǒu)布局,其中(zhong)飛凱材料(liào)、北旭電子(zǐ)規劃産能(néng)高達5000噸/年(nián),雅克科技(jì)通過收購(gou)LG化學下屬(shǔ)🤩彩色光刻(ke)膠事業部(bù)切入此市(shi)場,在渠道(dao)和技術☀️方(fāng)面具備優(yōu)勢。 光刻膠(jiao)等技術壁(bi)壘極高的(de)行業,實♻️現(xian)技術層面(miàn)的突破是(shi)基礎、其次(cì),需不斷改(gǎi)進工藝👄,滿(mǎn)足半導體(ti)行業快速(sù)發展的需(xu)要。 由于光(guang)👄刻膠等行(háng)業認證時(shí)間較長,客(ke)戶不會輕(qing)易更換供(gòng)應商,因此(cǐ)進入主流(liu)供應鏈是(shi)極其必要(yao)的。國内光(guāng)刻膠生産(chan)商未🙇‍♀️來有(yǒu)望把握中(zhōng)國半導體(tǐ)行業進口(kǒu)替代契機(ji),實現快速(sù)發展。   ◆ 資料(liao)來源:電子(zi)材料圈 ◆ 免(miǎn)責聲明:所(suǒ)載内容來(lái)源于互聯(lian)網,微信公(gōng)衆号等公(gong)開渠道,我(wǒ)們對文中(zhōng)觀點持中(zhōng)立态度,本(běn)文僅供參(can)考、交流☎️。轉(zhuan)載的稿件(jiàn)版權歸原(yuan)作者和機(jī)構所有。

發(fa)布時間:

2025-12-13

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